吸附外延反应炉(202510116753)
· 2025-11-29
申购单主题: 吸附外延反应炉
申购单位: 化学工程与技术学院
| 设备名称 | 品牌 | 型号 | 数量 | 报价类型 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 吸附外延反应炉 | 科民电子 | TALD-200-RE-200 | 1.0 | 进口免税价/人民币 | |||
| 售后服务 | |||||||
| 规格 | *1.腔体：不锈钢+6061铝腔室，采用外置加热结构，加热部件在反应腔体外侧，反应腔内侧无加热机构，反应源不会以包括微观扩散在内的任何方式接触加热器。配置有2个可加热至200摄氏度的外延反应容器及对应的管道，1个水供应容器和对应的管道，容器容积≥50ml，通过耐温≥200摄氏度的自动阀门控制外延反应物进入腔室的量，该阀门开关响应时间＜20ms。*2.样品台和载板：适用于1片最大不超过直径8英寸玻璃或硅片样品镀膜；*3.温度：基片温度上限不得超过150℃，SnO2反应温度不超过100℃，控制精度±1℃；4.高精度PLC+工控机+沉积自动控制软件组成的控制系统；图像化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数；多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；沉积模式：连续模式、停流模式；人机界面：外挂式触摸 | ||||||
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